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超滤设备
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一、超滤膜组件规格说明 1.超滤膜组件的膜材料
2.净水膜组件的规格属性
3.建议膜组件的设计流量
注:以上数据仅供参考。 4.组件使用条件和清洗方法
以上数据仅供参考,测试条件为:25oC, 0.12MPa。 清洗应在超滤膜没有造成严重污染之前进行,这样很容易使膜的通量恢复到初始状态,清洗的时间间隔一般以现场原水的试验为依据。 二、超滤膜尺寸图 3‐4040 外形尺寸 3‐5060 外形尺寸 3‐8060 外形尺寸 三、超滤运行示意图 一般情况下,反洗和气擦洗系统对CMF系统是必需的;通常还配备一个杀菌剂加药系统以控制微生物等繁殖对超滤膜的影响;而分散化学清洗系统则在水质较差时配备。 1.反洗系统 反洗系统包括反洗水箱、反洗水泵及次氯酸钠加装置。 反洗水箱 超滤反洗用水一般采用超滤产水,故可以不另设单独的反洗水箱,而采用超滤的产水箱。 反洗水泵 超滤由于采用频繁的反洗技术,故应单独设置反洗水泵。反洗水泵参数可以按以下选取: 1)流量:膜组件反洗通量可以按 150~200L/m2.h,折合成膜组件流量后乘以单套装置组件数量即可; 2)扬程:一般取 10~20 mH2O; 3)泵的过流材质应为不锈钢。 次氯酸钠加药装置 为抑制膜组件内细菌滋生,可以单独设置该加药装置。加药有两种方式:一 种 是 在 进 水 中 连 续 加入1~5ppmNaClO , 另 一 种 是 在 反 洗 水 中加入10~15ppmNaClO。次氯酸钠加药装置含以下设备: 1)加药箱:一般按一昼夜以上的药品贮存量。加药箱配低液位开关,低液位报警并停计量泵; 2)计量泵:按加入反洗水中次氯酸钠浓度10~15 ppm或按进水中加入1~5ppm 浓度来确定计量泵的流量, 压力大于 0.3 Mpa。 2.化学分散清洗系统 对于水质比较差的原水,建议在系统运行过程中增加化学分散清洗。根据水质情况选择酸或碱洗装置 之一,或者二者均选用。化学分散清洗系统设备由加药箱和计量泵组成。 酸洗加药装置 超滤进水中可能含有铁、铝等高价金属的胶体或者悬浮物,也可能存在硬度等结垢倾向,这些杂质可 能造成超滤膜的无机物污染。在此情况下,建议在化学分散清洗过程中加一定浓度的酸溶液进行化学分散 清洗,所用的酸可根据具体原水水质情况选用盐酸、草酸或柠檬酸等。 化学分散清洗酸加药装置含以下设备: 1)加药箱:应保证一昼夜以上的药品贮存量。加药箱配低液位开关,低液位报警并停计量泵; 2)计量泵(或采用流量更大的磁力泵):按加入浸泡水中酸的浓度(0.5~1%柠檬酸溶液、0.5~1%草酸溶液 或 0.4%HCl 溶液)确定计量泵的流量,压力大于0.3 MPa。 碱洗加药装置 原水中的有机物是造成超滤膜污染的重要原因,为防止由有机物及活性生物引起的超滤膜组件的污染, 建议在化学分散清洗过程中加一定浓度的碱进行化学分散清洗,所用的碱溶液推荐采用浓度为0.1% NaClO + 0.05 % NaOH溶液。 化学分散清洗碱加药装置含以下设备: 1)加药箱:一般按一昼夜以上的药品贮存量。加药箱配低液位开关,低液位报警并停计量泵; 2)计量泵(或采用流量更大的磁力泵):按加入浸泡水中碱的浓度(0.1%NaClO + 0.05 % NaOH)确定计量泵的流量,压力大于 0.3 MPa。当设置并使用该分散清洗加药工艺后,微生物等对膜的污染可以得到控制。 3.化学清洗系统 跨膜压差比初始上升 1.0bar(在相同温度下),且通过反洗不能恢复时就应对CMF连续超滤装置进行清洗。 清洗系统包括清洗溶液箱、清洗水泵及清洗过滤器,一般布置于一个机架上。该清洗为手动过程,通 常采用手动配药方式,且需将待清洗装置停机后进行。 清洗溶液箱 配制贮存清洗液用。容积可以按以下选定:按膜组件水容积量计算出单套CMF连续超滤装置组件的清洗液量,加上清洗管道及清洗过滤器内清洗液的量,再适当放上一些余量。 清洗水泵 1)流量:按每支膜组件 1m3/h 流量计,乘以单套装置组件数量即可; 2)扬程:一般取 30m H2O 左右; 3)泵的过流材质应为不锈钢。 清洗过滤器 清洗过滤器流量可以按清洗水泵流量选取,材质为不锈钢。 4.压缩空气系统 采用气擦洗技术可以大大提高超滤的反洗效果。气源要求无油压缩空气,CMF连续超滤装置最大进气压力2.5bar,单支组件进气量为5-12Nm3/h。 5.CMF连续超滤装置程控步序表 由于CMF连续超滤装置每 30~60 分钟需反洗一次,故一般均为自动运行。考虑到不同超滤系统的 进水水质差异较大,具体的运行及清洗参数、步序等宜根据现场调试情况最终确定。总的原则是,当水质较差时,增加反洗、气擦洗以及分散化学清洗的频率。 |